Wafer Marking Studio

Mots-clés : SEMI M12, SEMI M13, SEMI OCR Font, SEMI T7 Data Matrix, SEMI T1 BC-412, SEMI M1.15, Traçabilité des Wafers

Wafer Marking Studio

La suite professionnelle tout-en-un pour le traçage laser conforme aux normes SEMI. Conçue pour un rendement maximal et une traçabilité à 100 %.

  • Support Natif Haute Densité 4X : Matrice 20x36 de premier ordre.
  • Pleine Conformité SEMI : T7, M12, M13, T1 et M1.15.
  • Somme de Contrôle Auto : Vérification instantanée pour M12/M13.
  • Prêt pour le Matériel : Exportez du GCode ou imprimez via USB.
  • Alignement Dynamique : Positionnement automatique de l'OCR par rapport au T7.
  • Interface Utilisateur Intuitive : Interface de conception par glisser-déposer.
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Compatible avec les environnements Windows 64 bits

Condition requise : Veuillez installer le SDK .NET Core 9 64 bits avant l'installation.
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Nous proposons des modèles de licence flexibles, adaptés au volume de vos équipements et aux exigences de votre site.

Conseil de Pro : Incluez le nom de votre entreprise et le nombre de traceurs pour obtenir un devis formel plus rapidement.

Pourquoi le Marquage Haute Densité (4X) Est Important

Le marquage de la face arrière est difficile. Les polices standards 5x9 échouent souvent pendant le traitement. Voici comment Wafer Marking Studio résout ce problème :

Contraste

Le chevauchement 20x36 crée un trait plein qui se détache nettement sur les surfaces rugueuses non polies pour les systèmes AOI.

Résilience

Survit à la rectification agressive de la face arrière pour l'empilement de CI 3D / HBM, là où les polices 1x sont effacées par meulage.

Sécurité

Utilise une puissance laser plus faible avec un chevauchement d'impulsions plus élevé pour minimiser les zones affectées thermiquement (ZAT).

Durabilité

Une surface plus élevée garantit que les caractères restent lisibles même après des bains d'attaque chimique humide agressifs.

Comparatif des Spécifications de Densité

Type de Densité Taille de Matrice Meilleur Cas d'Utilisation
Simple (1x) 5 x 9 Surfaces avant polies ; identification simple.
Double (2x) 10 x 18 Traçabilité standard ; usage général de fabrication.
Triple (3x) 15 x 27 Surfaces arrière rugueuses ; finitions à grain moyen.
Quadruple (4x) 20 x 36 Wafers ultra-fins ; rectification de la face arrière ; fiabilité AOI haute vitesse.

La Raison Absolue : Éliminer la Zone D'ombre dans les Fabs Automatisées

Dans une usine de fabrication moderne entièrement automatisée ("Dark Fab"), si un scanner ne peut pas lire un wafer, toute la ligne s'arrête. Wafer Marking Studio n'est pas seulement un outil de police de caractères — c'est une Assurance Contre les Arrêts de Ligne.

1. Prévenir la Crise du "Wafer Fantôme"

Un arrêt de ligne dans une fab 300mm coûte des milliers de dollars par minute. Les polices standards 1x agissent comme un point de défaillance unique lorsque le bruit de surface arrière augmente.

L'impératif : Notre Studio garantit une automatisation sans intervention humaine. En utilisant la densité 4x et le T7 Data Matrix, votre système ne perd jamais la trace d'une unité, évitant ainsi les interventions manuelles coûteuses.

2. Traçabilité Automobile & Médicale

Pour les secteurs de l'automobile électrique (IATF 16949), de l'aérospatiale ou du médical, un marquage basé sur le "meilleur effort possible" constitue une responsabilité juridique.

L'impératif : Ces secteurs exigent une traçabilité corrigée des erreurs à 100 %. Le T7 Data Matrix avec correction Reed-Solomon est requis pour soumissionner sur des contrats à forte marge où les polices OCR sont trop facilement altérées.

3. La Contrainte Géométrique Physique

Les wafers modernes ont des zones d'exclusion ("Keep-out zones") de plus en plus réduites. Les polices 1x and 2x sont physiquement trop grandes pour de nombreuses nouvelles conceptions.

L'impératif : Pour faire tenir plus de 18 caractères dans une marge sans empiéter sur les zones actives de la puce, la densité 4x ou les formats T7 sont une nécessité mathématique, pas un choix.

Scénario de Production Police Standard SEMI (Optionnelle) Wafer Marking Studio (Obligatoire)
Rectification de Face Arrière Le marquage devient un bruit illisible. T7 récupère les données malgré les dommages.
Audits à Forte Marge Risque d'échec à l'audit & de perte de contrat. Conformité IATF Garantie.
Limites de la Zone de Bord La police empiète sur la zone active de la puce. La densité 4x reste dans la marge.
Efficacité de la Ligne Le taux élevé de "Non-Lecture" provoque des arrêts. Flux d'automatisation sans intervention.

"Si votre scanner ne peut pas le lire, votre robot ne le déplacera pas."

Wafer Marking Studio : Parce qu'un 'No-Read' est un 'No-Go'.

Guides de Mise en Œuvre

Ajout de Polices SEMI OCR Haute Densité

Basculez sans effort d'une densité à l'autre pour correspondre à la texture de votre substrat.

1x 1x (5x9)
2x 2x (10x18)
3x 3x (15x27)
4x 4x (20x36)

SEMI T7 Data Matrix

Prend en charge les cellules carrées ou circulaires. Se positionne automatiquement dans la zone exclusive de bord selon les normes SEMI.

Code SEMI T1 BC-412

Génération native de BC-412 pour le marquage de la face arrière des wafers de silicium à l'aide de points ou de barres.

Qu'est-ce qu'un Wafer de Silicium ?

Les wafers de silicium sont des tranches cristallines d'une pureté extrême utilisées comme substrat pour les circuits intégrés (CI). La qualité de leur surface et leur marquage précis sont essentiels pour la chaîne de fabrication microélectronique.

Normes de Marquage Globales

  • SEMI T7 : Data Matrix 2D pour les wafers polis double face.
  • SEMI M12 / M13 : Protocoles de marquage alphanumérique.
  • SEMI T1 : Normes pour le marquage de codes-barres BC-412.
  • SEMI M1.15 : Règles d'encoche pour wafers 300mm & d'alignement OCR/T7.